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新RRAM技术诞生 1TB手机储存不再是梦

2014-7-28 09:44| 发布者: xchtl| 查看: 3752| 评论: 10|来自: feng

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摘要:   当今在移动设备领域,智能手机的组件发展迅速,在过去几年时间里发生了质的变化。比如,AMR处理器从单核256MHz发展到超过1GHz频率和核心,显示屏从320×240像素飞跃至2K级别,摄像头也从300万像素升级到了恐怖的4100万像素。虽然RAM还在一点一点的增加,电池技术似乎没有太大改 ...


  当今在移动设备领域,智能手机的组件发展迅速,在过去几年时间里发生了质的变化。比如,AMR 处理器从单核 256MHz 发展到超过 1GHz 频率和核心,显示屏从 320×240 像素飞跃至 2K 级别,摄像头也从 300 万像素升级到了恐怖的 4100 万像素。虽然 RAM 还在一点一点的增加,电池技术似乎没有太大改变,但是下一个发生巨变的很有可能就是内置的储存空间。

  前几日,来自莱斯大学(Rice University)的研究小组公布了他们最新针对储存的研发成果,据称一种新型的可变阻式 RAM(RRAM)已经研发成功,并且具备功耗小,不易发热等特点,寿命是常规类型的 100 倍,超高的密度是现有的闪存密度高 50 倍,允许在仅一枚邮票大小的空间里容纳 1TB 容量的数据。

  莱斯大学的研究小组介绍称,硅是地球上最丰富的元素,关于它的研究也最多,于是才考虑将硅作为 RRAM 的介电元件。得益于新的材料多孔氧化硅,降低了成型电压,提高了可制造性,使该新型 RRAM 储存可在常规的制造方法下制造。换句话说,常规制造成本等因素不变,但提高了储存的容量。


  早在 2010 年,研究成员之一的化学家詹姆斯便已开始钻研,他所成立的研究小组就已发现了氧化硅用于制造导电细丝的途径,随着这扇研发之门的打开,将其当作 RRAM 材料思路便产生了。他表示,新 RRAM 还是三层结构的设计,不过二氧化硅层成为了两个电极之间中间的交换介质,让硅填充间隙,之后再通过电压脉冲来在硅间隙上存储数据。

  该研究小组坚信新型 RRAM 的未来一片光明。“它可以在室温下制造,具有极低的形成电压、低功耗、高开关比等特性,不仅每个存储单元可以存放 9 个字节,而且还拥有出色的开关速度和耐用性。”

  目前才用新制造商技术的新型 RRAM 已经引起了几个厂商的兴趣,不久之后将考虑技术授权,这意味着未来几年还会有更多的厂商参与其中,届时我们将与传统的闪存说再见,取而代之的将是高达 1TB 的 RRAM。
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