Intel不同制程工艺的成本、核心面积进化路线图
Intel公司是半导体业黄金定律——摩尔定律的提出者，也是最坚定的捍卫者。在本周举行的ISSCC国际固态电路会议上，Intel院士Mark Bohr也谈到了他们的半导体工艺，目前14nm工艺已经重回正轨，10nm工艺已经在开发中，即便到了7nm工艺节点，摩尔定律也一直有效，Intel无需EUV这样的工艺也能掌握7nm制程工艺。
今年是摩尔定律50周年，Intel公司创始人戈登·摩尔早在1965年提出了一种说法——半导体工业每一年，晶体管密度就会翻一倍。之后这个说法也随工艺发展不断修正，这个说法也被人称为摩尔定律。
Intel目前最新的量产制程工艺是14nm，在这一工艺上Intel进度比预期的慢，Broadwell处理器原本预计在去年中就会发布，现在差不多推迟了一年。Bohr表示目前14nm工艺已经重回正轨，他们在14nm工艺上遭遇的良率问题也让他们汲取了教训，在10nm工艺开发上会努力避免这些问题。
14nm工艺之后Intel将会推出10nm工艺，之前预计的时间点是2016年，不过此前Intel高管表示10nm工艺会在2017年问世，而10nm之后的7nm工艺，Intel预计的时间是2018年。此外，10nm之后的半导体制造会更复杂，通常需要更先进的制造工艺，比如EUV远紫外光刻技术，不过Intel此前就表示过即便没有EUV，他们也懂得如何开发7nm工艺，这次Mark Bohr院士也有着类似的表态，他们并不依赖EUV工艺。
